规格型号
ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M
主要功能与特色
微结构制备:通过光学系统以投影方法将掩模版上的图形转移到涂有光刻胶的晶圆上,晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。主要应用于微电子加工、表面与界面物理力学研究等领域。
关键技术指标
样品计费
预约方式
电话预约
典型案例