规格型号

HELIOS NANOLAB G3 CX

主要功能与特色

利用离子束的溅射和沉积功能实现材料的微区刻蚀和Pt薄膜沉积，在样品表层进行微区加工；利用电子束、离子束和配备的能谱仪、背散射电子仪等附件实现材料的形貌观察、成分分布、物相分布、晶粒取向分布、晶粒尺寸统计和位错分布等测试和相关分析

关键技术指标

分辨率 0.8 nm @15kV；最大样品尺寸 150 mm；真空度 2.56 10^-6 mBar

样品计费：1200/ 小时

预约方式

电话预约 010-82543921

典型案例

（1）透射电镜样品截面取样

（2）纳米柱加工